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dc.contributor.advisorMantilla Saavedra, Juan Carlos
dc.contributor.authorMejía Suárez, Wilber Gerardo
dc.coverage.spatialSeccional Bucaramanga. Universidad Pontificia Bolivariana. Escuela de Ingenierías. Facultad de Ingeniería Electrónicaes_CO
dc.coverage.temporal2008es_CO
dc.date.accessioned2013-06-21T19:23:18Z
dc.date.available2013-06-21T19:23:18Z
dc.date.issued2013-06-21
dc.identifier.urihttp://hdl.handle.net/20.500.11912/194
dc.description77p.: (pdf); il; tablas; anexoses_CO
dc.description.abstractEste documento contiene información generalizada del proceso de fabricación de microestructuras electrónicas. Describe el concepto de MEMS (Micro Electronic Mechanical Systems), sus principales aplicaciones. Detalla el proceso de limpieza RCA que se desarrolla en los sustratos de silicio; seguido con el proceso de litografía y las diferentes técnicas de deposición (layer deposition) y/o grabado (etch process) que se ejecutan sobre estos sustratos u obleas. Además de los diferentes instrumentos que se utilizan tal como el interferómetro de luz blanca, microscopios y equipos de luz ultravioleta utilizados en fotolitografia. Conjuntamente se puede tener información de las salas blancas que son los lugares donde se desarrollan estas estructuras microelectrónicas; el traje que se debe usar al ingresar allí y las respectivas normas de seguridad.es_CO
dc.description.abstractThis  document  gives  an  overview  about  the  microelectronics  structures  fabrication process. It also mentions the concept of MEMS (Micro Electronic  Mechanical  Systems)  and  its  applications.  Describes  the  different  process  involved with microelectronic structures fabrication as the clean process call RCA  process,  the  different  techniques used  to make  a  layer  deposition  and  etch  process. There is also information about the main instruments involved with  those processes. Besides there is information about the clean room that is the  place where all microelectronic structures are make, also the mains rules to  follow and security policy.es_CO
dc.language.isoeses_CO
dc.publisherUniversidad Pontificia Bolivarianaes_CO
dc.rightsAttribution-NonCommercial-NoDerivatives 4.0 International*
dc.rights.urihttp://creativecommons.org/licenses/by-nc-nd/4.0/*
dc.sourceinstname:Universidad Pontificia Bolivarianaes_CO
dc.sourcereponame:Repositorio Institucional de la Universidad Pontificia Bolivarianaes_CO
dc.subjectIngeniería electrónica
dc.subjectTesis y disertaciones académicas
dc.subjectFotolitografíaes_CO
dc.subjectSemiconductores - fabricaciónes_CO
dc.subjectEquipos ultraviolestases_CO
dc.subjectTrabajos de grado de ingeniería electrónicaes_CO
dc.titlePráctica empresarial en la empresa Robert Bosches_CO
dc.typeworkingPaperes_CO
dc.rights.accessRightsopenAccesses_CO
dc.type.hasVersionpublishedVersiones_CO


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