Análisis espectroscópico del plasma generado por láser pulsado

Abstract

La ablación por láser pulsado provee un método conveniente para el procesamiento de una amplia variedad de materiales sólidos. La ablación láser de un blanco de grafito ha probado ser uno de los métodos más apropiado para la preparación de materiales de compuesto de carbono interesantes, tales como fulerenos, nanotubos de pared simple, y películas delgadas de carbono tipo diamante (DLC). Sin embargo, para producir películas de alta calidad con características únicas, es deseable conocer la composición y energía de las partículas que son depositadas y entender el mecanismo que produce estas partículas. Para obtener información sobre los diferentes parámetros del plasma, como también los procesos que se llevan a cabo en el rango de las presiones estudiadas empleamos la técnica de Espectroscopia de Emisión Óptica. Laser ablation gives a appropiate method for processing of a wide variety of solids materials. Laser ablation of a graphite target has proved to be the most appropriated method for novel materials preparation of carbon compounds like fullerenes, single wall nanotubes, and thin films diamond like carbon (DLC) and so on. However, for the production thin films of high quality with unique characteristic, is desirable to know the composition and particles energies that are deposited and understand the mechanics that produce these particles. We use Optical Emission spectroscopy for obtain information about the plasma parameters, as well the processes that carry out into the plasma for different ambient gas pressure.